华东理工大学知名校友王锦山受邀作学术报告
发布人:网站管理员  发布时间:2023-11-06   动态浏览次数:42

2023114日下午,华东理工大学知名校友、上海JCDL材料研究院首席技术专家、原子转移自由基聚合(ATRP)发明人、上海集材微电子材料技术有限公司总经理、华东理工大学行业导师、上海德沪涂膜设备有限公司董事长王锦山博士受邀为材料学院师生作了题为“光刻材料:国产化亟需攻克的课题和新的技术发展方向”的学术报告。材料学院党委书记袁媛老师主持,副院长胡彦杰、江浩与来自材料学院的90余位师生参加了本次报告会。

  


王锦山校友以近年来我国JCDL的现状、面临的挑战与机遇为契入点,详细介绍了光刻技术的发展历程、光刻原理、光刻材料的种类及其中的技术难点。特别介绍了光刻新技术发展的两大方向及其核心技术,结合中国在光刻领域的突破口对我校学科建设提出了宝贵的建议。王锦山校友指出:JCDL产业是支撑经济社会发展的战略性、基础性、先导性产业,JCDL是电子系统的脖子,材料是JCDL脖子之一,JCDL材料是关键中的关键。他强调,聚焦现有高端光刻胶的“卡脖子”问题,从电子级JCDL材料原料制备及纯化技术、精准活性聚合技术及其工程化、应用开发平台全方位合作、化工-材料-器件复合型人才培养等统筹规划,是实现高端光刻胶树脂国产化的根本出路。与会师生积极提问,王锦山校友一一耐心答疑解惑。他希望学院的学科建设及人才培养能够瞄准国家发展需求,站在后摩尔时代的起点和新的格局上,激励同学们在今后的科研道路上砥砺奋进。

  


袁媛对王锦山校友长期以来对我校材料学院的关心和支持表示感谢!她指出,作为国内JCDL领域的开拓者,王锦山校友不仅关心着国内JCDL领域的发展现状,同时也心系着我校学科建设,为推动学院创新发展贡献自己的力量。本次讲座让在场师生受益匪浅,不仅了解了JCDL行业,特别是高端光刻胶树脂产业的过去、现在和未来,更让大家深切感受到了我国在该领域与发达国家的差距,以及实现国产化的不易和挑战。她希望,通过本次讲座老师们能得到研究启迪,学生们能增强使命感和责任感!